锗材料CMP抛光液是广东腾骏化工科技有限公司生产的高端产品，广泛应用于大尺寸硅晶片抛光工艺中。该产品在实际应用中凭借浓度高、纯度高、金属离子污染低、速率稳定性高、一致性好等卓越的性能得到了客户的充分肯定。该产品投放市场以来受到了多家客户的好评，目前已在国内多家生产线上通过了测试，并获得很好的应用效果，且性能达到了美、日等进口产品水平。

HPHE/SSPS-SH-2034型硅材料CMP浆料采用我司自主合成的SiO2水溶胶作为磨料。该磨料合成过程中采用新的合成工艺和自动化的生产控制，在传统胶体的基础上提高了粒径均匀性和纯度，专门应用于高端产品。产品配制过程中采用了封闭式自动化的配制合成方式，各种辅助试剂具有严格的检测标准，并且进行现场的配制合成，避免了原料存储过程中的不稳定因素导致产品质量问题。在抛光中根据需要可以优化不同配比，均能达到最佳使用效果。与美国和日本的同类产品相比，该类产品具有浓缩度高、磨料粒径可控、表面张力小、对有机物、金属离子及颗粒容易清洗、抛光速率高、高温不出现非均化蚀坑、抛光一致性好等优点。

主要用于多重扩散硅片的高质量抛光，也可用于原始锗、二氧化硅等材料的抛光工艺。

建议HPHE/SSPS-SH-2034型浆料和去离子水的配比为1：15-20，也可根据实际工艺要求改变配比。

1、浆料使用过程中尽量避免直接暴露，防止污染物进入浆料中造成划伤。

2、冬季气温较低（<5℃）时，浆料不可放置室外，需存放在恒温仓库，一旦发生凝胶将不可使用。

3、浆料使用过程中需要及时清洗管路和器具，避免浆料长期残留在管路和容器中造成凝胶，引起晶片表面划伤。

4、浆料循环使用时，需要在管口添加过滤装置，以免发生凝胶而又反复应用时造成晶片表面划伤。

1、运输与存放温度为5-40℃，25℃为最佳存放温度，存放时应避光，以避免抛光液变质。

2、保质期一年，建议半年内使用。

3、避免金属、颗粒污染，避免强电解质的接触。

25kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。