砷化镓抛光液
砷化镓抛光液
HPHE/GAPS-SH-1834型砷化镓CMP抛光液是广东腾骏化工科技有限公司生产的新一代水溶性高纯度CMP浆料，具有稳定性好、浓度高、抛光速率快等特点。该产品在实际应用中凭借高稀释比例、低金属离子污染等卓越的性能得到了客户的充分肯定，主要用于砷化镓晶片的抛光工艺中。
二、主要特点HPHE/GAPS-SH-1834型 CMP浆料采用我公司自主合成生产的高纯纳米SiO2 单质硅作为磨料，具有生产自动化高，稳定性好，浓度较高，粒径均一性好，杂质沾污少等特点。该产品选用的辅助试剂多为有机试剂，避免了无机物对设备的腐蚀以及操作的危险性。产品无毒无味，非常适用于集成电路用砷化镓晶片的抛光工艺。在抛光中根据需要可以优化不同配比，均能达到最佳使用效果。与同类产品相比，该产品能够有效控制晶片表面的各种金属沾污，主要参数指标均能满足IC要求。
三、主要用途HPHE/GAPS-SH-1834型 CMP抛光液主要用于砷化镓晶片的高质量抛光，也可用于锗片的抛光。
四、基本参数| pH值 | 比重 | 粘度(mPa.s，25℃) | 粒径(nm) | SiO2% | 外观 |
| 10.0-11.0 | 1.265-1.300 | ≤5 | 120-140 | 38-42 | 乳白 |
根据工艺将抛光原浆料按一定比例与去离子水混合后使用。
1、浆料使用过程中尽量避免直接暴露，防止污染物进入浆料中造成划伤。
2、冬季气温较低（<5℃）时，浆料不可放置室外，需存放在恒温仓库，一旦发生凝胶将不可使用。
3、浆料使用过程中需要及时清洗管路和器具，避免浆料长期残留在管路和容器中造成凝胶，引起晶片表面划伤。
4、浆料循环使用时，需要在管口添加过滤装置，以免发生凝胶而又反复应用时造成晶片表面划伤。
七、运输及保存1、运输与存放温度为5-40℃，25℃为最佳存放温度，存放时应避光，以避免抛光液变质。
2、保质期一年，建议半年内使用。
3、避免金属、颗粒污染，避免强电解质的接触。
包装规格25kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。
